Dieser fortschrittliche Sensor nutzt Schweizer Fertigungstechnologie mit einer Photopolymermembran, die mit Siliziumnitrid und leitenden Siliziumhalbleiterelementen beschichtet ist. Es verfügt über integrierte Chlor- und Temperatursonden und nutzt MEMS-Technologie mit mikroelektronischen Komponenten, die spritzgegossen und verkapselt sind.

Funktionsprinzip

Wenn sich die Konzentration an freiem Chlor oder Chlordioxid in Wasserproben ändert, erzeugt der Sensor unterschiedliche Stromstärken. Die Daten werden über einen Spannungsregler und Signalverstärker verarbeitet und dann in ein Standard-MODBUS-RS485-Signal umgewandelt.

Technische Spezifikationen

Parameter	Einzelheiten
Messung	HCLO, CLO₂
Messsystem	Mikroelektronische MEMS-Technologie, spezielle Membranstruktur
Messbereich	0-5 ppm
Messgenauigkeit	±2 % FS; bei pH 7 im Trinkwasser, mindestens ±0,03 ppm
Auflösung	0,01
Polarisationszeit	Erster Gebrauch: 2 Stunden lang in chloriertes Wasser eintauchen, dann 30 Minuten lang einschalten
Ansprechzeit	<30 Sekunden nach der Polarisation
Mindestleitfähigkeit	≥100 µS/cm; nicht für Reinstwasser geeignet
Betriebstemperatur	0–40 °C (nicht kondensierend)
Temperaturkompensation	Pt1000, integrierte automatische Kompensation
Maximaler Druck	10 bar
Empfohlene Strömungsgeschwindigkeit	≥0,03 m/s, in der Durchflusszelle
pH-Bereich	5-9; unter 5 beschädigt die Membrankappe
Maximale Chlorkonzentration	≥5 ppm; Eine Überschreitung verringert die Lebensdauer der Membrankappe
Versorgungsspannung	Standard 24 V DC ±2 V; optional 12V DC ±2V
Stromverbrauch	Ca. 1,56 W
Digitale Kommunikation	MODBUS RS485
Kabellänge	3 m Standard, anpassbar
Sondengewicht	Ca. 210 g
Gewindegröße	NPT 3/4
Verbindungstyp	5-poliger wasserdichter Luftfahrtstecker
Benetzte Materialien	O-Ring-Dichtungen aus PVC und Viton®

Garantie und Wartung

Garantie:3 Jahre (Membrankappe ist ein Verbrauchsmaterial und nicht abgedeckt)

Wartung:Austauschzyklus der Membrankappe: 1 Jahr (oder abhängig von den Wasserqualitätsbedingungen)

Hinweis: Dieser Sensor verfügt über eine störungsfreie Siliziumnitridbeschichtung für eine verbesserte Leistung in industriellen Anwendungen.

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